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[供应信息] 浅谈铜箔软连接制作工艺流程
P:2019-11-14 09:44:10
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卡诺电气铜箔软连接采用高分子扩散焊工艺,将接触面的多层铜箔融解在一起,改变其分子结构,凝固成铜块后再进行后续加工。热融焊后的铜箔软连接产品进行钝化处理,并对表面及周边区域的毛刺、污渍、腐蚀、凹凸、划痕、抗氧化、水洗、烘干、成型、包装等进行处理。产品搭接面可按客户需求钻孔。软连接部位可整体或局部包覆绝缘套管。铜箔软连接可整体或局部镀锡、镀银或镀镍,在焊接的时会对焊接力度控制,使铜片完全粘合无缝隙以减少表面电阻,提高导电率,严格控制公差,安全性能,导电性好,来满足客户不同需求。
铜箔软连接采用T2铜箔,经分丝成各种宽度,通过高分子扩散焊或氩弧焊工艺进行熔压焊接,整体或表面可镀银镀锡处理。
铜箔材质:T2无氧铜
镀层:表面镀锡或镀银处理
接触面:接触面长度可按安装要求设计。
钻孔:标准设计无钻孔要求,可按图纸要求在接触面钻孔。
绝缘材料:标准设计无绝缘材料,可按要求使用PVC绝缘套管并加以热缩固定。
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